8英寸MEMS晶圆生产线之离子束刻蚀机国际招标公告（1）

（略）受招标人：（略）
1离子束刻蚀机1套*刻蚀工艺腔要求腔室内部安装有易拆卸替换的专用内衬板、栅网、观察窗、石英放电腔等，可实现设备真空腔室的快速清理和维护，要求设备配备两套内衬板，（略），两套石英放电腔、两套观察窗、两套中和器，一套在用，一套备用；（略）构造，（略）、腔室本体、ESC下电极、电源分配模块接口、传送腔体接口等；对于刻蚀窗口暴露面积超过10%的晶圆，具备终点检测抓取能力。对于厚度300μm～1100μm的8英寸晶圆片，金（Au）薄膜刻蚀应满足以下指标：*（1）金（Au）刻蚀速率≥800？/min；
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:（1）投标人是响应招标、已在招标人：（略）