高真空多靶磁控溅射镀膜机（ZBZXJJ20240114）采购公告

项目名称：（略）
公告开始日期（略）:13:44公告截止日期（略）:00:00
采购单位：（略）
联系人：（略）
签约时间要求到货时间要求
预算总价￥200,000.00++未公布
收货地（略）二段四川大学江（略）
供应商资质要求符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明
采购清单1采购商品采购数量计量单位：（略）
高真空多靶磁控溅射镀膜机1台电子工业生产设备无无
品牌品牌1泰科诺
（略）JCPS400
品牌2
（略）
品牌3
（略）
预算单价￥200,000.00
0">技术参数及配置要求主要技术参数：1.真空腔室腔体采用SUS304不锈钢制作，镀膜室内净尺寸:L440×W400×H450；方箱式，配有前、后门，前门水平滑开式，便于手套箱内操作；后门为侧开式门，用于设备清理维护；特点：镀膜室配置独立机架，可在脱离手套箱条件下单独调试，与手套箱之间通过镀膜室前门框密封连接，对接方便、密封可靠；2.（略）复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计；3.真空极限6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；4.升压率设备升压率：≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa；5.抽速从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）；6.基片台①基片台尺寸Φ150mm，最大样品尺寸小于Φ150mm；配有基片台挡板；②旋转转速0～20转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源；③加热:室温～500±1℃（基片台环境温度）；PID智能温控闭环控温，可控可调。7.溅射靶及电源①配置2套3英寸永磁共焦磁控溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向上溅射；可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板结构；②工作方式：（略）
售后服务服务年限:24月;电话支持:7x24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:两年;
四川大学
（略）:13:44
（略）地址：（略）