深圳技术大学磁控溅射镀膜机意向公开

（略）:09来源：【打印】深圳技术大学磁控溅射镀膜机意向公开采购单位：（略）
项目名称：（略）
预算金额（元）:3,450,000.000
采购品目:其他仪器仪表
采购需求概况:拟采购磁控溅射镀膜机1台，配置参数包括：1.基片尺寸：8英寸，兼容8英寸以下基片；2.镀膜均匀性：8英寸基片内≤±5%；3.4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr；4.本底真空：优于5E-7torr，主腔室工作气压可调；5.带全自动loadlock单基片进样室，可以安装一个8英寸的基片；6.样品加热台温度：最大不低于800摄氏度，转速0-20RPM可调，还具有清洗样品功能；7.电源数量：2台600W的射频电源，1台1500W直流电源，1个靶枪电源切换器,1个样品台专用射频电源切换器；8.质量流量计：3路，O2（20sccm）、Ar（100sccm）、N2（20sccm）；9.控制方式：（略）
联系人：（略）
联系电话：（略）
预计采购时间:2024-03
备注:无
本次公开的采购意向是本单位：（略）