高真空磁控溅射薄膜沉积系统

（略）:CB（略）0476
签约时间：发布竞价结果后7天内签约合同
申购主题:（略）
送货时间：合同签订后7天内送达
采购单位：（略）
安装要求：免费上门安装（含材料费）
报价要求：国产含税
收货地址：（略）
发票类型：增值税专用发票
币种：人民币
预算：******
付款方式：（略）
备注说明：
评标结果：序号：1采购内容：（略）数量：1.0预算单价：******品牌：（略）：TRP450规格参数：（1）设备由进样室、溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、退火炉、反溅靶、磁力送样机构、（略）、（略）、安装机台、（略）等部分组成。（2）溅射室极限真空度：≤6.67E-6Pa。进样室极限真空度：≤6.67E-4Pa。（3）磁控溅射靶组件：3套，其中一套为强磁靶。靶材尺寸为2英寸。靶配有屏蔽罩，以避免靶材之间的交叉污染。靶与样品距离90～130mm可调。（4）包含2台500W直流溅射电源和1台500W射频溅射电源。（5）样品台大小为4英寸；可旋转，转速为每分钟5-20转连续可调；可加热，加热温度为室温至800°C连续可调；样品台配有独立挡板；样品台安装-200V偏压电源。（6）进样室可作为退火炉使用，对基片加热最高温度800°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制，样品4英寸。进样室与溅射室共用一个加热电源，切换使用。（7）（略）：共3路进气，具有质量流量控制器和混气室。质保及售后服务：按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务）