高真空多靶磁控溅射镀膜机

（略）:CB（略）1472
签约时间：发布竞价结果后7天内签约合同
申购主题:高真空多靶磁控溅射镀膜机
送货时间：合同签订后7天内送达
采购单位：（略）
安装要求：免费上门安装（含材料费）
报价要求：国产含税
收货地址：（略）
发票类型：增值税专用发票
币种：人民币
预算：******
付款方式：（略）
备注说明：22DK101319
评标结果：序号：1采购内容：高真空多靶磁控溅射镀膜机数量：1.0预算单价：******品牌：（略）：JCP500规格参数：基片台尺寸Φ210mm，最大样品尺寸Φ200mm；旋转转速0～20转/分钟，可调可控；配置3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向上溅射；靶基距调整范围80～110mm，可调整最佳镀膜距离；可溅射磁性材料，镍靶材3.0㎜厚，非磁性材料5㎜厚）质保及售后服务：按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务）